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新型乙酸鈉醋酸鈉碳源生產(chǎn)廠家氣液相等離子體對(duì)水中四環(huán)素去除及機(jī)制研究

來源:鞏義市仁源水處理材料廠 作者:Admin 日期:22-04-21 瀏覽:

  新型乙酸鈉醋酸鈉碳源生產(chǎn)廠家氣液相等離子體對(duì)水中四環(huán)素去除及機(jī)制研究

  新型乙酸鈉醋酸鈉碳源廠家氣液相等離子體對(duì)水中四環(huán)素去除及機(jī)制研究。四環(huán)素類抗生素是一種廣泛用于治療細(xì)菌感染性疾病的抗生素,其生產(chǎn)和使用量在全球排名第二,在中國(guó)排名第一。四環(huán)素類抗生素的大量使用導(dǎo)致其在水體環(huán)境(地表水、地下水)和土壤環(huán)境檢測(cè)中被頻頻發(fā)現(xiàn),其中水環(huán)境中的檢出水平在ng/L~μg/L不等,土壤中的檢出水平在μg/kg~mg/kg之間。

  四環(huán)素類抗生素主要通過醫(yī)療廢水、制藥廠廢水及養(yǎng)殖廢水等媒介進(jìn)入環(huán)境,若藥物長(zhǎng)期存在于環(huán)境中,將破壞自然與人類和諧共處的平衡。因抗生素具有抗菌性,傳統(tǒng)水處理工藝不能將其有效地去除。因此,開發(fā)一種有效的抗生素治理技術(shù)迫在眉睫。

  等離子體技術(shù)主要是通過高壓放電產(chǎn)生各種自由基氧化去除有機(jī)污染物,被認(rèn)作是一種高級(jí)氧化技術(shù)。近年來,等離子體技術(shù)用于降解氣體、水和固體中的抗生素和其他有機(jī)污染物的研究迅速增長(zhǎng)。非熱等離子體,如介質(zhì)阻擋放電(DBD)和脈沖電暈放電因處理時(shí)間短、無需添加化學(xué)物質(zhì)、操作溫度低、能源效率高、環(huán)境相容性好等優(yōu)點(diǎn)在環(huán)境污染處理與控制領(lǐng)域,特別是廢水修復(fù)領(lǐng)域受到了特別關(guān)注。

  本研究以氣液相等離子體作為四環(huán)素去除手段,分析光電性能的變化,考察了各種影響因素,例如放電氣體、溶液pH、放電功率、溶液電導(dǎo)率等對(duì)四環(huán)素降解的影響,最后提出了可能的污染物降解機(jī)制,以期為四環(huán)素廢水的處理提供技術(shù)依據(jù),同時(shí)為環(huán)境污染治理和修復(fù)提供新思路和技術(shù)。

  1

  材料和方法

  1.1實(shí)驗(yàn)裝置

  實(shí)驗(yàn)裝置是由針筒石英反應(yīng)裝置和自制直流電源組成。高壓電極為不銹鋼針頭(長(zhǎng)約12 cm,直徑約為2 mm),外配長(zhǎng)13 cm和直徑4 mm的石英管。接地電極為待處理的四環(huán)素溶液。通過放電,等離子體在高壓電極與液面間形成。實(shí)驗(yàn)裝置見圖1。

新型乙酸鈉醋酸鈉碳源生產(chǎn)廠家氣液相等離子體對(duì)水中四環(huán)素去除及機(jī)制研究

  圖1 實(shí)驗(yàn)裝置

  1.2實(shí)驗(yàn)方法

  將待處理的四環(huán)素溶液置于石英反應(yīng)器中,調(diào)節(jié)工作氣體于適當(dāng)流速和適當(dāng)工作電壓,在預(yù)設(shè)的時(shí)間點(diǎn)取樣,通過高效液相色譜(1260 Infinity,安捷倫公司,美國(guó))測(cè)定四環(huán)素的質(zhì)量濃度。流動(dòng)相采用草酸(0.01 mol/L)∶乙腈∶甲醇=67∶22∶11(體積比),液體流速1.0 mL/min,柱溫30 ℃,波長(zhǎng)354 nm。利用式(1)計(jì)算四環(huán)素的降解率。

  (1)新型乙酸鈉醋酸鈉碳源生產(chǎn)廠家氣液相等離子體對(duì)水中四環(huán)素去除及機(jī)制研究

  式中:C0,Ct——初始和t時(shí)刻四環(huán)素的質(zhì)量濃度, mg/L;

  η——降解率,%。

  放電時(shí)的電流電壓變化利用示波器測(cè)定,利用式(2)計(jì)算放電功率,通過式(3)計(jì)算降解過程中的能量效率。

  (2)新型乙酸鈉醋酸鈉碳源生產(chǎn)廠家氣液相等離子體對(duì)水中四環(huán)素去除及機(jī)制研究

  (3)新型乙酸鈉醋酸鈉碳源生產(chǎn)廠家氣液相等離子體對(duì)水中四環(huán)素去除及機(jī)制研究

  式中:U(t)——放電時(shí)的電壓,V;

  I(t)——放電時(shí)的電流,A;

  t——放電時(shí)間,h;

  C——四環(huán)素的初始質(zhì)量濃度,mg/L;

  V——處理溶液體積,L;

  η——降解率,%;

  P——放電功率,kW;

  Y——能量效率,mg/(kW·h)。

  等離子體放電產(chǎn)生的光譜利用高分辨率光纖光譜儀測(cè)定,選取200~1 000 nm范圍采集數(shù)據(jù)。

  2

  結(jié)果和討論

  01等離子體電學(xué)和光學(xué)性質(zhì)

  放電過程中,系統(tǒng)的電流電壓直接影響產(chǎn)生的等離子體的數(shù)量,并影響對(duì)污染物的降解。本小節(jié)主要研究等離子體在放電過程中電流、電壓的變化情況。

  圖2為典型的電流電壓周期變化圖。

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  圖2 氣液相放電等離子體電壓-電流波形圖

  體系放電呈周期性變化,電流電壓的變化頻率為750 Hz,周期約為1.6 ms。在放電時(shí),系統(tǒng)的電壓突然降低,電流突然增加,此時(shí)產(chǎn)生等離子體。該條件下的放電電壓為4 kV,電流為1 A,通過式(2)計(jì)算,此時(shí)的放電功率為19.7 W。

  圖3顯示了在不同氣體(空氣、氧氣和氬氣)-純水條件下的光譜圖。

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  (a)空氣-水 (b)氧氣-水 (c)氬氣-水

  圖3 不同條件下氣液相等離子體發(fā)射光譜

  由圖3可知,在空氣-水環(huán)境條件下,等離子體的發(fā)射光譜主要由·OH(306~310 nm)、N2(300~400 nm)、Hα(656.3 nm)、Hβ(486.1 nm)、活性O(shè)(777.2 nm和844.6 nm)譜線組成〔圖3(a)〕。在氧氣-水環(huán)境條件下,發(fā)射光譜主要由·OH、Hα、Hβ、活性O(shè)組成〔圖3(b)〕。與空氣條件下相比,氧氣氛圍條件下產(chǎn)生的活性O(shè)、·OH和H譜線強(qiáng)度明顯增強(qiáng)。在氬氣-水環(huán)境條件下,發(fā)射光譜主要由·OH、Hα、Hβ、活性O(shè)、Ar(696.54、706.7、714.7、738.4、750.4、763.51、772.38、794.82、801.48、811.53、840.82、842.48 nm)譜線組成〔圖3(c)〕。與空氣條件相比,氬氣放電產(chǎn)生的·OH和H強(qiáng)度明顯增強(qiáng),且Ar峰強(qiáng)度大。原因可以解釋為:氬氣在高壓放電時(shí),比在空氣條件下更容易擊穿,在相同的放電功率下,可得到更強(qiáng)的放電效果。

  02不同因素對(duì)四環(huán)素降解的影響

  2.2.1 放電功率對(duì)降解的影響

  在四環(huán)素初始質(zhì)量濃度為20 mg/L,工作氣體為空氣,處理溶液pH為6.86的條件下,探究放電功率對(duì)四環(huán)素降解的影響,結(jié)果如圖4所示。

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  圖4 放電功率對(duì)降解的影響

  四環(huán)素的降解效率隨著放電功率的增加而增加。放電功率從9.78 W增加到32.58 W時(shí),12 min時(shí)四環(huán)素的降解效率從30.3%提升至97.5%,與其他研究相一致。在同一時(shí)間點(diǎn),系統(tǒng)中產(chǎn)生的活性物質(zhì)隨著放電功率的增加而增加,與四環(huán)素碰撞的機(jī)率變大,降解效率提高;同時(shí),放電產(chǎn)生的紫外光可以使四環(huán)素發(fā)生光降解反應(yīng)。在同一放電功率下,隨著處理時(shí)間的延長(zhǎng),四環(huán)素的去除效果沒有明顯增加,其原因?yàn)樗沫h(huán)素降解過程中會(huì)伴隨產(chǎn)生大量中間產(chǎn)物,與四環(huán)素競(jìng)爭(zhēng)產(chǎn)生的活性物質(zhì),導(dǎo)致四環(huán)素降解效率變慢。

  通過能耗計(jì)算,在放電功率為32.58、19.7、9.78 W的條件下,對(duì)四環(huán)素溶液處理25 min時(shí),體系的能效分別為72.9、108.5、335.6 mg/(kW·h)。

  從上述結(jié)果分析,四環(huán)素的降解效率隨著放電功率的增強(qiáng)而增加,但能效逐漸降低,因?yàn)樵诜烹娺^程中,許多副反應(yīng)會(huì)伴隨產(chǎn)生,例如體系會(huì)產(chǎn)生大量的熱、強(qiáng)的紫外光等。為了獲取高的降解效率和能效,后期實(shí)驗(yàn)選用的放電功率為19.7 W。

  2.2.2 溶液pH對(duì)降解的影響

  在降解四環(huán)素的過程中,溶液的pH逐漸降低。實(shí)驗(yàn)在四環(huán)素初始質(zhì)量濃度為20 mg/L,工作氣體為空氣,放電功率為19.7 W的條件下考察了初始pH對(duì)降解的影響,結(jié)果見圖5。

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  圖5 溶液pH對(duì)降解的影響

  由圖5可知,在pH為6.5、3.6和9.2時(shí),處理8 min時(shí)系統(tǒng)對(duì)四環(huán)素的降解率分別為28.7%、76.5%和81.8%,四環(huán)素在酸性和堿性環(huán)境中比在中性環(huán)境中降解效果好。在放電過程中,系統(tǒng)會(huì)產(chǎn)生大量臭氧,pH直接影響臭氧的存在狀態(tài)。在堿性條件下,臭氧與溶液中的羥基發(fā)生反應(yīng)生成羥基自由基,此時(shí)臭氧間接與污染物發(fā)生反應(yīng);在酸性條件下,臭氧穩(wěn)定存在且溶解度增加,此時(shí)臭氧直接與污染物發(fā)生反應(yīng)。因此,在堿性環(huán)境中四環(huán)素主要與反應(yīng)生成的羥基自由基發(fā)生反應(yīng);在酸性環(huán)境中四環(huán)素分子主要與溶解的臭氧分子發(fā)生反應(yīng)。

  2.2.3 工作氣體對(duì)降解的影響

  通過對(duì)等離子體放電光譜分析得出,不同放電氣體組分條件下產(chǎn)生的活性物質(zhì)的種類及含量不同。在四環(huán)素初始質(zhì)量濃度為20 mg/L,放電功率為19.7 W,溶液pH為6.5的條件下,考察了放電氣體組分(空氣、氧氣、氬氣)對(duì)四環(huán)素降解效果的影響,結(jié)果見圖6。

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  圖6 工作氣體對(duì)降解的影響

  由圖6可知,在放電氣體組分為氬氣、空氣、氧氣條件下,處理6 min時(shí)體系對(duì)四環(huán)素的降解率分別為11.5%、18.0%和52%。當(dāng)處理時(shí)間增加至20 min時(shí),3種體系對(duì)四環(huán)素的去除率分別增加至74.9%、82.2%和97.9%,此結(jié)果與Qifu LIN等研究一致。

  與其他放電氣體組分相比,氧氣作為放電組分時(shí),等離子體放電可產(chǎn)生更多活性物質(zhì)〔臭氧、羥基自由基等,如式(4)~(7)〕。放電伴隨著紫外光的產(chǎn)生,過氧化氫和臭氧受紫外光刺激,產(chǎn)生更多的羥基自由基〔式(8)~(12)〕,加快四環(huán)素降解反應(yīng)。

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  以空氣作為放電組分時(shí),系統(tǒng)會(huì)產(chǎn)生大量的活性氮和氮離子(NOx、·NOx、HONOO、NOx-等),因?yàn)榛钚缘难趸缘陀诨钚匝酰沫h(huán)素的降解效率降低;另外,形成的活性氮會(huì)消耗氣氛中的氧氣,導(dǎo)致活性氧的數(shù)量降低,如式(13)~(16)。

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  以氬氣為放電組分時(shí),對(duì)污染物進(jìn)行降解的主要物質(zhì)為羥基自由基和過氧化氫。氬氣被激發(fā),以亞穩(wěn)態(tài)存在〔Ar(3P)〕,激發(fā)產(chǎn)生的高能電子與水分子作用生成羥基自由基和過氧化氫,如式(17)~(20)。

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  2.2.4 溶液電導(dǎo)率對(duì)降解的影響

  改變?nèi)芤旱碾妼?dǎo)率,使溶液的導(dǎo)電性增加,可能會(huì)引起系統(tǒng)的放電效果的改變。在四環(huán)素初始質(zhì)量濃度為20 mg/L,放電氣體為空氣,放電功率為19.7 W,溶液pH為6.5的條件下,考察溶液電導(dǎo)率(利用NaCl調(diào)節(jié))對(duì)四環(huán)素降解效果的影響,結(jié)果見圖7。

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  圖7 溶液電導(dǎo)率對(duì)降解效果的影響

  由圖7可知,增加一定濃度的NaCl改變?nèi)芤旱碾妼?dǎo)率,有助于四環(huán)素的去除,但超過某限值,反而使四環(huán)素的降解效果變差。這是因?yàn)樘砑右欢康腘aCl,可有效降低因溶液中化學(xué)阻抗消耗的功率;同時(shí),隨著反應(yīng)的進(jìn)行,系統(tǒng)中也會(huì)產(chǎn)生硝酸鹽、亞硝酸鹽和四環(huán)素的中間產(chǎn)物等物質(zhì),改變系統(tǒng)的電導(dǎo)率,進(jìn)而增強(qiáng)四環(huán)素的去除。但太高濃度鹽溶液體系使電子轉(zhuǎn)移受阻,四環(huán)素降解率反而下降。因此,在反應(yīng)體系中適當(dāng)添加電解質(zhì),可以減少系統(tǒng)的能耗比,改善污染物的去除。

  2.3反應(yīng)機(jī)制

  2.3.1 活性物質(zhì)的測(cè)定

  不同放電氣體組分條件下,體系降解四環(huán)素的主要活性物質(zhì)不同。為考慮后期實(shí)際應(yīng)用,本研究擬采用空氣為放電組分,通過測(cè)定放電過程中產(chǎn)生的活性物質(zhì)含量,提出可能的反應(yīng)機(jī)制。

  等離子體放電過程中會(huì)產(chǎn)生很多活性物質(zhì),分為長(zhǎng)壽命活性物質(zhì)(O3、H2O2、NO3-和NO2-)和短壽命活性物質(zhì)(·OH、·OH2和·O等)。考慮短壽命活性物質(zhì)不易測(cè)定,且長(zhǎng)壽命活性物質(zhì)可間接反應(yīng)短壽命活性物質(zhì),本實(shí)驗(yàn)測(cè)定了體系中的O3、H2O2、NO3-,結(jié)果見圖8。

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  圖8 活性反應(yīng)組分質(zhì)量濃度隨放電時(shí)間的變化

  由圖8可知,隨著放電時(shí)間的延長(zhǎng),體系中這3種物質(zhì)的質(zhì)量濃度都逐漸增加。其中NO3-和H2O2的質(zhì)量濃度增加較快,臭氧增加較慢,因?yàn)槌粞踉隗w系中逐漸達(dá)到飽和。過氧化氫在溶液中的生成過程如式(21)~(24)。

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  臭氧分子具有很強(qiáng)的氧化還原電位(約2.07 V),在體系中可以與污染物快速地發(fā)生反應(yīng),臭氧在體系中生成及轉(zhuǎn)化的過程如式(25)~(27)。

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  在反應(yīng)體系中,溶液的pH和電導(dǎo)率會(huì)隨著處理時(shí)間的延長(zhǎng)而改變,其主要原因是放電過程中硝酸根和亞硝酸根的生成,如式(28)~(30)所示。

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  2.3.2 降解反應(yīng)歷程

  圖9(a)為四環(huán)素降解過程中的紫外可見光譜圖。譜圖中有2個(gè)吸收峰:一個(gè)位于紫外吸收區(qū)域,波長(zhǎng)大約為275 nm;另一個(gè)位于可見光吸收區(qū)域,波長(zhǎng)約為359 nm。275 nm處的吸收峰主要由苯環(huán)和與之連接的羥基和酰胺基引起;359 nm處的吸收峰主要與其他苯環(huán)有關(guān)。

  隨著等離子體放電時(shí)間增加,兩個(gè)吸收峰強(qiáng)度逐漸降低,其原因可能是苯環(huán)上的羥基、酰胺基與芳香環(huán)上的烯醇被氧化;同時(shí)與四環(huán)素分子結(jié)構(gòu)類似的副產(chǎn)物不斷被去除。

  圖9(b)為實(shí)際放電過程中的照片,此氣液相反應(yīng)為絲狀放電,放電過程中,通過載氣將活性組分帶入反應(yīng)體系中。圖9(c)為反應(yīng)過程模擬圖,放電產(chǎn)生的長(zhǎng)壽命活性物質(zhì)(O3、H2O2、NO3-和NO2-)和短壽命活性物質(zhì)(·OH、·OH2和·O等)進(jìn)入溶液后,與溶液中的四環(huán)素分子發(fā)生碰撞接觸達(dá)到降解的目的。

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  圖9 四環(huán)素紫外-可見光譜圖(a);實(shí)際放電照片(b);反應(yīng)體系模擬圖(c)

  3

  結(jié) 論

  氣液相等離子作為一種高級(jí)氧化技術(shù),可以有效去除水體中的抗生素。研究采用間歇式反應(yīng)器考察不同影響因素對(duì)四環(huán)素降解的影響,體系放電呈周期性變化,瞬時(shí)放電電壓約為4 kV,放電電流約為1 A,放電頻率約為750 Hz。利用光譜在不同放電組分條件下分析,當(dāng)以氧氣為放電組分時(shí),四環(huán)素的降解效果最好。

  在同一條件下,四環(huán)素的降解效率隨著放電功率的增強(qiáng)而增加,但能耗增多;pH可影響產(chǎn)生的臭氧在體系中的存在狀態(tài),臭氧在堿性條件下可快速分解生成氧化能力較強(qiáng)的羥基自由基,促進(jìn)對(duì)四環(huán)素的降解;在一定范圍內(nèi)增加溶液電導(dǎo)率,可促進(jìn)四環(huán)素的去除。隨放電時(shí)間的延長(zhǎng),長(zhǎng)壽命活性物質(zhì)含量逐漸增加。

  本研究采用氣液相等離子體技術(shù)去除水中四環(huán)素具有良好的效果,通過探索不同因素對(duì)降解的影響,可為后期實(shí)際應(yīng)用提供一定的技術(shù)參數(shù)和理論指導(dǎo)。

 

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